Langmuir adsorption model
σ_s(∂Θ/∂t) = S_n Γ_n (1 - Θ) - Y_total Γ_iΘ
σ_s: surface site areal density
Y_total = x Y_sn + Y_n
x : 表面層の塩素の組成（SiClx）
Y_sn : etch yield
Y_n : neutral の sputter yield
K. Ono, M. Tuda, Thin Solid Films, 2000
→ この式から characteristic time を導くことはできないか？
